Изложены основы современной физики плазмы. Охвачен широкий диапазон условий, в том числе слабо и сильноионизированная плазма, плазма при отсутствии магнитного поля и при существенном его влиянии. Наряду с подробным количественным анализом процессов, определяющих поведение плазмы, дано качественное обсуждение физической картины этих процессов. Учебное пособие предназначено для студентов, аспирантов, инженеров и научных работников, интересующихся физикой плазмы и ее приложениями.
Izlozheny osnovy sovremennoj fiziki plazmy. Okhvachen shirokij diapazon uslovij, v tom chisle slabo i silnoionizirovannaja plazma, plazma pri otsutstvii magnitnogo polja i pri suschestvennom ego vlijanii. Narjadu s podrobnym kolichestvennym analizom protsessov, opredeljajuschikh povedenie plazmy, dano kachestvennoe obsuzhdenie fizicheskoj kartiny etikh protsessov. Uchebnoe posobie prednaznacheno dlja studentov, aspirantov, inzhenerov i nauchnykh rabotnikov, interesujuschikhsja fizikoj plazmy i ee prilozhenijami.
