В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 "Нанотехнология в электронике", 210104 "Микроэлектроника и твердотельная электроника", 222900 "Нанотехнология и микросистемная техника", 210600 "Нанотехнология", 210100 "Электронное машиностроение", а...
V uchebno-spravochnom rukovodstve proveden analiz vozmozhnostej, osobennostej, ogranichenij i oblastej primenenija razlichnykh litograficheskikh i nelitograficheskikh metodov nanostrukturirovanija dlja sozdanija topologii IS s elementami substonanometrovogo diapazona. Pokazany osnovnye fizicheskie i khimicheskie mekhanizmy i ogranichenija, lezhaschie v osnove opticheskoj nanolitografii, nanolitografii na ekstremalnom ultrafiolete, nanoimprint litografii, elektronnoj nanolitografii i vakuumnogo gazoplazmennogo travlenija. Privedeno sovremennoe proizvodstvennoe oborudovanie razlichnykh vidov nanolitografii, ego operatsionnye i konstruktsionno-tekhnologicheskie parametry, tekhnologicheskie i ekonomicheskie kharakteristiki realizuemykh protsessov. Rukovodstvo dlja universitetov s obucheniem po spetsialnostjam: 210601 "Nanotekhnologija v elektronike", 210104 "Mikroelektronika i tverdotelnaja elektronika", 222900 "Nanotekhnologija i mikrosistemnaja tekhnika", 210600 "Nanotekhnologija", 210100 "Elektronnoe mashinostroenie", a...
